LUND / LONDON (IT BOLTWISE) – Das schwedische Startup AlixLabs hat eine bedeutende Investition von 15 Millionen Euro erhalten, um seine Atomic Layer Etching (ALE) Technologie weiterzuentwickeln. Diese Technologie verspricht, die Herstellung von Halbleitern effizienter und kostengünstiger zu gestalten, indem sie die Anzahl der notwendigen Prozessschritte reduziert.
Das schwedische Unternehmen AlixLabs, das sich auf die Atomic Layer Etching (ALE) Technologie spezialisiert hat, hat kürzlich eine Investition von 15 Millionen Euro abgeschlossen. Diese Investition, die im ersten Quartal 2026 gesichert wurde, stammt von Stephen Industries, einem finnischen Investmentunternehmen. Bereits im November 2025 hatte AlixLabs bekannt gegeben, dass Global Brain und andere institutionelle Investoren 14,1 Millionen Euro in die Serie A investiert hatten, wobei der verbleibende Betrag bis zum ersten Quartal 2026 offen blieb.
AlixLabs, das 2019 aus der Universität Lund in Schweden ausgegründet wurde, behauptet, das weltweit einzige Unternehmen zu sein, das sich ausschließlich auf ALE konzentriert. Die Mission des Unternehmens ist es, die Produktion von Halbleitern im Ångström-Zeitalter zugänglicher, nachhaltiger und erschwinglicher zu machen. Mit seiner Technologie ist AlixLabs in der Lage, Nanostrukturen mit charakteristischen Größen von weniger als 20 Nanometern herzustellen, was die energieeffiziente Fertigung von Strukturen ermöglicht, die über die Auflösungsgrenzen der optischen und Elektronenstrahllithographie hinausgehen.
Die Investition markiert einen strategischen Meilenstein für AlixLabs, da das Unternehmen seine proprietären ALE-Lösungen weiterentwickelt, insbesondere die APS (Atomic Pitch Splitting) Technologie. Diese Technologie zielt darauf ab, eine präzisere, effizientere und kostengünstigere Halbleiterfertigung zu ermöglichen. Ein wesentlicher Aspekt der Partnerschaft ist die Beteiligung von Kustaa Poutiainen von Stephen Industries, dessen Erfahrung in der Entwicklung und Expansion von Deep-Tech-Unternehmen einen erheblichen strategischen Vorteil bietet.
AlixLabs betont, dass seine Prozesse für den Einsatz auf 300 Millimeter (12-Zoll) Logik- und DRAM-Siliziumwafern ausgelegt sind, einschließlich FinFET und GAAFET (Nanodraht). Sie sind ebenso geeignet für 150 und 200 Millimeter Wafer für Leistungselektronik auf Galliumnitrid (GaN). Durch die Nutzung von ALE können Halbleiterunternehmen den Energie- und Wasserverbrauch sowie die Emissionen reduzieren, was die Technologie zu einer umweltfreundlicheren Alternative macht.
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