JSR ArF-Photoresist für 5-nm-Linien: Präzision im Chipwerk
TOKIO / LONDON (IT BOLTWISE) – JSR rĂĽckt mit seinem ArF-Photoresist erneut die Details in den Fokus, die in modernen 5-nm-Workflows ĂĽber Erfolg oder Ausschuss entscheiden. In der 193-nm-ArF-Lithografie steuert der Resist die Schärfe von Linien und beeinflusst direkt, wie stabil ein Prozessfenster ĂĽber Wochen hinweg bleibt. FĂĽr Fabs zählt dabei nicht nur die theoretische […]
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