Fotomaskenplattform

LONDON / LONDON (IT BOLTWISE) – Samsung will laut Plan den branchenweit ersten Einsatz von High-NA-EUV in der künftigen DRAM-Produktion vorbereiten. Der südkoreanische Konzern erweitert dafür seine ASML-Partnerschaft und setzt auf eine 12-Zoll-Fotografiemasken-Plattform. Parallel treiben die Teams Updates für Tizen OS 10.0 auf Haushaltsgeräten und ein Sicherheits-Update für Galaxy-Geräte mit 90 behobenen Schwachstellen voran. Am […]