ZÜRICH / LONDON (IT BOLTWISE) – Forschende der ETH Zürich haben Leuchtpolymere entwickelt, die wie Fotolack funktionieren und zugleich die harschen Chemikalien der Fotolithografie überstehen. Damit lassen sich farbige OLED-Pixel so strukturieren, wie es aus der Halbleiterfertigung bekannt ist. Die Arbeit zeigt Testbilder mit einer Pixelanordnung von 250 mal 350 Pixeln auf 300 mal 430 Mikrometer sowie ein 1 mal 2,4 Millimeter großes ETH-Logo. Als nächstes steht die weitere Verkleinerung der Pixel und die Ansteuerung einzelner Bildpunkte für echte Displays im Fokus.

Immer kleinere Displays stellen die Fertigungstechnik vor ein ungelöstes Detailproblem: Je feiner die Pixel werden, desto stärker müssen Herstellungsverfahren die Materialien nicht nur präzise, sondern auch chemisch belastbar strukturieren. OLEDs bieten dafür grundsätzlich Vorteile, weil sie nicht auf Kristallscheiben basieren, sondern auf organischen Leuchtverbindungen. Diese organischen Materialien können bei kleinerer Pixelgeometrie trotz kompakter Abmessungen weiterhin intensiv Licht emittieren. In der Praxis hakt es jedoch an der Brücke zur klassischen Chipindustrie: Fotolithografie nutzt Lacksysteme und Prozesschemie, die organische Moleküle angreifen oder zersetzen können.
Der zentrale technische Ansatz der ETH Zürich setzt genau hier an. Die Forschenden entwickelten Leuchtpolymere, die zwei Rollen gleichzeitig übernehmen: Sie emittieren später Licht für die OLED und dienen als Fotolack, der sich bei Belichtung per UV-Licht vernetzt. In der Chipfertigung bedeutet das: Wenn das Polymer als Resist-Schicht aufgebracht, belichtet und anschließend strukturiert wird, entstehen geometrisch saubere Muster, ohne dass das lichtemittierende Material vorzeitig chemisch degradiert. Damit wird organisches Leuchten mit einem Prozess kompatibel, der in der Halbleiterproduktion seit Jahrzehnten skaliert und optimiert ist.
Damit die empfindlichen Leuchtmoleküle die Fotolithografie überhaupt überstehen, haben die Forschenden das Material auf molekularer Ebene abgeschirmt. Sie nutzen ein Kern-Schale-Prinzip in Form eines Molekülkomplexes: Im Innern sitzt der farbig leuchtende Teil, während außen sternförmig angeordnete Arme liegen, deren Enden auf UV-Licht reagieren. Bei der Belichtung vernetzen sich diese Außenbereiche gezielt mit benachbarten Molekülarmen. Die Folge ist, dass der Bereich, der während der Strukturierung gezielt „steif“ werden soll, im Prozess anlöst, während der leuchtende Kern räumlich geschützt bleibt. Parallel dazu übernimmt der innere Bereich eine weitere Funktion, nämlich die reaktiven Vernetzungsenden auf Abstand zu halten und so die Degradation des Leuchtmaterials zu reduzieren.
Wie gut das Zusammenspiel aus Schutzfunktion und lithografischer Auflösung funktioniert, zeigten die Forschenden in mehreren Testaufbauten. In einem hochaufgelösten statischen Fluoreszenz-Testbild wurde das Motiv eines Aras auf 300 mal 430 Mikrometer mit 250 mal 350 Pixeln abgebildet. Entscheidend ist hier nicht die elektrische Aktivierung, sondern die Fähigkeit des Materials, mit Belichtung präzise Pixelstrukturen zu tragen: Die Pixel wurden von außen mit Licht angeregt und fluoreszierten dann. Laut den Projektangaben handelt es sich dabei um das bisher höchstaufgelöste mehrfarbige Bild aus Fluoreszenzfarben, das mit Fotolithografie hergestellt wurde. Ergänzend entstand ein elektrisch betriebenes Leuchtelement in Form eines 1 mal 2,4 Millimeter großen ETH-Logos, das in Zusammenarbeit mit der Elektronikgruppe von Hua Wang umgesetzt wurde.
Der nächste Schritt ist für die Überführung in ein echtes Display-Setup besonders klar beschrieben: Bislang geht es um die Strukturierung der leuchtenden Pixel, während für einen funktionierenden Bildschirm zusätzlich eine Elektronik nötig ist, die jeden Bildpunkt unabhängig ansteuern kann. Ohne diese per-Pixel-Ansteuerung bleibt es bei Testmustern oder bei statischen, optisch angeregten Strukturen. Die Forschenden planen deshalb, die Pixelgröße weiter zu reduzieren und die Ansteuerung darauf aufzubauen. Genau diese Kombination aus lithografischer Skalierung und passender Treiberarchitektur entscheidet in der Praxis darüber, ob sich OLED-Pixel als Fertigungstechnologie für Bildschirme oder als Präzisionslichtquelle etablieren können.
Markt- und Industrieseitig ist der Reiz des Ansatzes groß, weil er eine Abkürzung verspricht: Statt OLED-Strukturen mit Spezialverfahren aufzubauen, sollen sich photolithografische Skalierung und Prozessdisziplin der Halbleiterfertigung direkt auf organische Leuchtsysteme übertragen lassen. Das könnte auch Entwicklerteams entlasten, die bislang zwischen OLED-Materialchemie und Chip-Lithografie unterschiedliche Prozessketten koordinieren müssen. Außerdem entstehen Anschlussfelder, die über klassische Konsumer-Displays hinausgehen. Shih sieht Anwendungsmöglichkeiten in winzigen Lichtquellen für Medizintechnik sowie in Geräten der biologischen und neurowissenschaftlichen Forschung, etwa um Licht kontrolliert an definierte Stellen zu bringen, beispielsweise für Untersuchungen einzelner Zellen oder zum Anregen von Nervenzellen in einer Petrischale. Die Publikation in Nature trägt den Titel „Electroluminescent photoresists extending lithographic scaling to OLEDs“ und steckt damit die Richtung ab, in der sich sowohl Mikrodisplays als auch chipintegrierte Lichtquellen weiterentwickeln könnten.
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