MÜNCHEN / LONDON (IT BOLTWISE) – In der Halbleiter- und Batteriefertigung sind präzise Messungen unter extremen Bedingungen entscheidend. Neue konfokale Sensoren von Micro-Epsilon bieten Lösungen für Herausforderungen wie hohe Temperaturen und Vakuumumgebungen. Diese Technologie ermöglicht eine zuverlässige Prozessüberwachung und eröffnet neue Möglichkeiten für die Qualitätskontrolle.

Inline-Messtechnik für extreme Bedingungen in der Halbleiterfertigung
Inline-Messtechnik für extreme Bedingungen in der Halbleiterfertigung (Foto: IT BOLTWISE)
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In der modernen Halbleiterfertigung sind präzise Messungen unter extremen Bedingungen unerlässlich. Die neuen konfokalen Sensoren von Micro-Epsilon bieten eine Lösung für die Herausforderungen, die durch hohe Temperaturen und Vakuumumgebungen entstehen. Diese Sensoren sind speziell für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt worden, wo herkömmliche Messtechniken oft an ihre Grenzen stoßen.

Die konfokalen Sensoren der Serie IFS2407-HT/VAC sind darauf ausgelegt, Umgebungstemperaturen von bis zu 200 °C standzuhalten, ohne die Signalstabilität zu beeinträchtigen. Ihr passiver Aufbau verhindert die Abgabe von Wärmestrahlung, was sie ideal für den Einsatz in thermisch belasteten Bereichen macht. Diese Sensoren sind besonders für den Einsatz im Ultrahochvakuum und im Reinraum konzipiert, was sie zu einer wertvollen Ergänzung in der Halbleiterfertigung macht.

Ein weiterer Vorteil dieser Technologie ist die Möglichkeit, die Sensoren mit den neuen 2-Kanal-Controllern IFC2412 und IFC2417 zu kombinieren. Diese Controller ermöglichen eine synchrone Erfassung der Signale beider Kanäle, was besonders bei der Dickenmessung von Materialien wie Batteriefolien von Vorteil ist. Die Controller bieten eine hohe Messdynamik und lassen sich dank ihrer kompakten Bauform auch bei beengten Platzverhältnissen flexibel integrieren.

Die Integration dieser Technologie in bestehende Fertigungsprozesse bietet zahlreiche Vorteile. Durch die hohe Präzision und Zuverlässigkeit der Messungen können Produktionsprozesse optimiert und Ausschuss minimiert werden. Dies ist besonders in der Halbleiterindustrie von Bedeutung, wo die exakte Ausrichtung von Wafertischen und die Kontrolle von Prozessabständen entscheidend für die Qualität der Endprodukte sind.


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